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超純水設備生産(chǎn)出的水為(wèi)何可(kě)以提高半導體(tǐ)産(chǎn)業的生産(chǎn)質(zhì)量

時間：2024-03-07

　　半導體(tǐ)産(chǎn)業是我國(guó)電(diàn)子信息産(chǎn)業的重要組成部分(fēn)，近年來發展迅速。我國(guó)半導體(tǐ)産(chǎn)業的主要産(chǎn)品包括芯片、半導體(tǐ)器件、半導體(tǐ)材料等，應用(yòng)範圍廣泛，包括計算機、通信、消費電(diàn)子、汽車(chē)、工(gōng)業控制等領域。我國(guó)半導體(tǐ)産(chǎn)業的發展經曆了從引進到自主研發的過程，現在已經具(jù)備了一定的技(jì )術實力和規模優勢，除了國(guó)内市場外，還積極發展海外市場。

　　半導體(tǐ)清潔程度對于産(chǎn)品質(zhì)量至關重要，能(néng)直接影響到産(chǎn)品的安(ān)全性和可(kě)靠性。半導體(tǐ)清潔不徹底會導緻晶圓表面的雜質(zhì)含量增加，從而影響到電(diàn)子元件的工(gōng)作(zuò)性能(néng)和壽命。在半導體(tǐ)生産(chǎn)中(zhōng)，常常會進行蝕刻、切割、焊接等工(gōng)藝，會造成半導體(tǐ)表面産(chǎn)生各種雜質(zhì)。這些雜質(zhì)成分(fēn)的清洗需要采用(yòng)到高純度的超純水，才能(néng)避免對半導體(tǐ)造成污染。

超純水設備

　　超純水成分(fēn)簡單，除了氫原子和氧原子之外，基本不含有(yǒu)任何有(yǒu)機物(wù)、金屬離子、鹽分(fēn)、細菌和微生物(wù)。應用(yòng)超純水清洗半導體(tǐ)不但可(kě)以去除半導體(tǐ)表面的污垢，也不用(yòng)擔心對其造成腐蝕和污染。超純水設備是生産(chǎn)這種超純水的專用(yòng)設備，采用(yòng)了“反滲透+EDI+抛光混床”的技(jì )術工(gōng)藝，生産(chǎn)超純水連續穩定，生産(chǎn)過程無污染、能(néng)耗低。

　　反滲透膜可(kě)以有(yǒu)效分(fēn)離去除超純水中(zhōng)除了氫氧原子之外的雜質(zhì)成分(fēn)，是一種物(wù)理(lǐ)分(fēn)離方式。EDI技(jì )術能(néng)實現帶電(diàn)荷運行，加快離子遷移速度，實現超純水深度脫鹽。抛光混床工(gōng)藝處理(lǐ)有(yǒu)力保障超純水設備出水質(zhì)量，使出水質(zhì)量達到18MΩ*cm(25℃)。

　　超純水設備生産(chǎn)超純水質(zhì)量可(kě)靠，應用(yòng)在半導體(tǐ)行業中(zhōng)能(néng)确保産(chǎn)品質(zhì)量，降低産(chǎn)品報廢率，從而提高半導體(tǐ)産(chǎn)業的整體(tǐ)效益，對促進我國(guó)半導體(tǐ)科(kē)技(jì )發展有(yǒu)重要價值。

　　編輯：新(xīn)奇技(jì )術：加菲

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