淺析矽晶圓生産(chǎn)為(wèi)何需要應用(yòng)超純水設備？

　　前言：熟悉半導體(tǐ)領域的人都會了解矽晶圓，矽晶圓是半導體(tǐ)的核心，也是成本占比最高的材料，對純度也有(yǒu)超高要求，是一種為(wèi)了制成半導體(tǐ)積體(tǐ)電(diàn)路的原材料。本文(wén)淺析一下矽晶圓生産(chǎn)為(wèi)何需要應用(yòng)超純水設備。

　　矽晶圓作(zuò)為(wèi)半導體(tǐ)的核心部件，其在制造過程中(zhōng)需要應用(yòng)超純水設備的原因有(yǒu)以下幾點：

　　1.對于清潔度的要求。矽晶圓制造過程中(zhōng)對水質(zhì)清潔度要求非常高。普通水中(zhōng)的雜質(zhì)和離子可(kě)能(néng)會影響到矽晶圓的品質(zhì)和性能(néng)，因此需要使用(yòng)超純水來清洗和加工(gōng)矽晶圓。

　　2.制作(zuò)中(zhōng)需要使用(yòng)表面活性劑來清洗矽晶圓表面的污垢和油脂。這些表面活性劑對水的純淨度要求非常高，應用(yòng)高度純淨的超純水，使表面活性劑能(néng)夠充分(fēn)發揮作(zuò)用(yòng)，有(yǒu)效清洗矽晶圓表面的污垢和油脂。

　　3.生産(chǎn)效率在矽晶圓制造過程中(zhōng)，使用(yòng)超純水設備可(kě)以顯著提高生産(chǎn)效率。高度純淨的超純水可(kě)以快速蒸發，使矽晶圓更快地幹燥和冷卻，從而縮短生産(chǎn)周期和提高生産(chǎn)效率。

　　簡而言之，就是為(wèi)了提高矽晶圓質(zhì)量需要使用(yòng)超純水設備。我國(guó)雖然半導體(tǐ)材料産(chǎn)業起步較晚，但是發展比較迅猛。那麽什麽樣的超純水設備才能(néng)産(chǎn)出高質(zhì)量的超純水呢(ne)？

　　目前常見的超純水設備核心工(gōng)藝為(wèi)“預處理(lǐ)+反滲透+EDI+抛光混床”的組合形式。該超純水設備具(jù)有(yǒu)高效低能(néng)、運行成本低，水資源利用(yòng)率高、體(tǐ)積較小(xiǎo)、維修量小(xiǎo)，運行時間長(cháng)等優點。這樣的超純水設備在運行時是不需要添加任何化學(xué)品的，不僅減少了化學(xué)品運輸問題，同時降低了系統運行費用(yòng)。并且設備不會有(yǒu)酸堿廢液産(chǎn)生，所以不需要酸堿中(zhōng)和池，一般情況下産(chǎn)出的濃水完全可(kě)以回收再利用(yòng)，并且采用(yòng)的設計結構相對靠緊，所以其占地非常小(xiǎo)，可(kě)以為(wèi)企業節省很(hěn)多(duō)空間。

　　超純水設備可(kě)以更好的，連續的，穩定地制備高品質(zhì)的超純水，完全符合矽晶圓生産(chǎn)用(yòng)水水質(zhì)标準。随着我國(guó)科(kē)技(jì )半導體(tǐ)産(chǎn)業的不斷發展與壯大，對于矽晶圓的産(chǎn)出質(zhì)量要求也會越來越高，所以對于使用(yòng)超純水設備要求也會提高，這也将帶動相關産(chǎn)業的發展。

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